美光放弃 4F² DRAM:密度瓶颈在电容间距,不在单元占位面积
来源:hothardware.com — 2026-10-22
📋 概述
美光宣布放弃把 DRAM 单元从 6F² 推到 4F² 这条「圣杯」路线,尽管研究了二十多年,而 4F² 本身还是美光发明的。CTO Scott DeBoer 的理由是:DRAM 密度最终由电容所需的间距决定,不由名义单元占位面积决定,所以从 6F² 缩到 4F² 在密度上收益有限,成本与复杂度却急剧上升。这与竞争对手相反:三星、SK 海力士与中国长鑫都在推进 4F²,长鑫声称年底会在服务器 DDR5 RDIMM 上用上。美光的替代路线是继续深挖 6F²:高密度 1δ 提良率、1ε 引入先进晶圆键合,Boise 新厂(500 亿美元扩建)将产 1δ。
🔑 核心要点
- 反直觉但理由具体:密度由电容间距决定,名义单元面积的理论 33% 红利拿不到。
- 美光是 4F² 的发明者,做了二十多年研究,最后自己放弃商业化。
- 对手全线押注:三星、SK 海力士、长鑫都在推 4F²,长鑫称年底上服务器 DDR5 RDIMM。
- 替代路径是 6F² 深挖:1δ 提良率、1ε 用晶圆键合,Boise 新厂将产 1δ。
💡 金句
DRAM density is ultimately set by the spacing required by the capacitors, not by the nominal cell footprint.
👍 0
👎 0
← 返回 Hacker News 首页